Invention Grant
- Patent Title: 含银薄膜蚀刻液组合物、用其制造的用于显示装置的阵列基板及其制造方法
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Application No.: CN201811267385.2Application Date: 2018-10-29
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Publication No.: CN110359050BPublication Date: 2021-08-10
- Inventor: 张晌勋 , 权五柄 , 崔亨燮
- Applicant: 东友精细化工有限公司
- Applicant Address: 韩国全罗北道
- Assignee: 东友精细化工有限公司
- Current Assignee: 东友精细化工有限公司
- Current Assignee Address: 韩国全罗北道
- Agency: 北京市中伦律师事务所
- Agent 杨黎峰; 钟锦舜
- Priority: 10-2018-0034681 20180326 KR
- Main IPC: C23F1/30
- IPC: C23F1/30 ; H01L27/12
Abstract:
本发明提供一种含银薄膜蚀刻液组合物、利用它制造的用于显示装置的阵列基板及其制造方法，相对于组合物的总重量，该含银薄膜蚀刻液组合物包含40.0至60.0重量％的磷酸、5.0至9.0重量％的硝酸、0.1至4.0重量％的硝酸铁、0.5至5.0重量％的无机酸盐及余量的水。
Public/Granted literature
- CN110359050A 含银薄膜蚀刻液组合物、用其制造的用于显示装置的阵列基板及其制造方法 Public/Granted day:2019-10-22
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IPC分类:
