发明授权
- 专利标题: 气相层析设备的分离系统
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申请号: CN201810418914.8申请日: 2018-05-04
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公开(公告)号: CN110441101B公开(公告)日: 2022-07-01
- 发明人: 莫皓然 , 薛达伟 , 莫立邦 , 陈世昌 , 黄启峰 , 韩永隆
- 申请人: 研能科技股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹市科学园区研发二路28号1楼
- 专利权人: 研能科技股份有限公司
- 当前专利权人: 研能科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市科学园区研发二路28号1楼
- 代理机构: 隆天知识产权代理有限公司
- 代理商 聂慧荃; 郑特强
- 主分类号: G01N1/28
- IPC分类号: G01N1/28 ; B01D19/00 ; B01D15/10
摘要:
一种气相层析设备的分离系统,包含一分离流路,是由半导体制程制出多个流路单元堆叠组成,该每个流路单元是由一底基材上制出一成形层再堆叠一上基材所构成,且于该成形层生成出一连续延伸环路连通的导气通路。导气通路中设置填充材,使得进入分离流路内的受测样品被填充材的吸附力所牵引,受测样品所含不同的化合物其吸附力也不同,透过受测样品所含不同的化合物受不同的吸附力所牵引,让受测样品所含不同的化合物于分离流路内产生不同的流速,进而使不测样品所含不同的化合物于分离流路内逐渐分离。
公开/授权文献
- CN110441101A 气相层析设备的分离系统 公开/授权日:2019-11-12