一种全息光栅模板及其制备方法
Abstract:
本发明提供一种全息光栅模板及其制备方法,全息光栅模板的制备方法包括:提供一衬底,衬底上依次形成有硬掩模层和图形化的光刻胶层,光刻胶层具有图形;以图形化的光刻胶层为掩模,刻蚀硬掩模层,将图形复制至硬掩模层中,以形成图形化的硬掩模层;对衬底执行离子注入工艺,在离子注入区得到光栅模板图形区;刻蚀硬掩模层并暴露出衬底;刻蚀衬底的非离子注入区,以暴露出光栅模板图形区,并形成全息光栅模板。通过离子注入工艺得到所需形状的光栅结构区,经过高刻蚀选择比刻蚀保留光栅结构区,从而得到全息光栅模板,工艺难度较低,工艺可行性高;通过在衬底上直接形成光栅结构区,避免了光刻工艺的转版步骤,减少了工艺步骤,降低了生产成本。
Public/Granted literature
Patent Agency Ranking
0/0