本发明涉及一种测试掩模版及其形成方法、测试掩模版的形成装置。所述测试掩模版的形成方法包括如下步骤：形成具有多个测试图形的初始版图，相邻测试图形之间具有第一间隙；获取对应的产品掩模版中的图形密度分布；添加若干冗余图形至所述初始版图的所述第一间隙中，形成版图，所述版图中的图形密度分布与所述产品掩模版中的图形密度分布的差值在一预设范围内；根据所述版图生成测试掩模版。本发明减少甚至是消除了测试掩模版在制备过程中由刻蚀负载效应对其不同位置关键尺寸产生的不利影响，提高了测试掩模版的图形尺寸精度。用本发明生产的测试掩模版建立OPC修正模型，提高了模型精度以及对应产品掩模版的修正效果，改善了光刻质量。