发明授权
- 专利标题: 一种栅控PIN结构GaN紫外探测器及其制备方法
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申请号: CN201910899567.X申请日: 2019-09-23
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公开(公告)号: CN110660882B公开(公告)日: 2021-05-04
- 发明人: 仇志军 , 叶怀宇 , 张国旗
- 申请人: 深圳第三代半导体研究院
- 申请人地址: 广东省深圳市南山区西丽大学城学苑大道1088号台州楼
- 专利权人: 深圳第三代半导体研究院
- 当前专利权人: 南方科技大学
- 当前专利权人地址: 518000 广东省深圳市南山区桃源街道学苑大道1088号
- 代理机构: 北京中知法苑知识产权代理有限公司
- 代理商 阎冬; 李明
- 主分类号: H01L31/18
- IPC分类号: H01L31/18 ; H01L31/113 ; H01L31/105 ; H01L31/0224
摘要:
本发明公开了一种栅控PIN结构GaN紫外探测器及其制备方法,包括:1)衬底上依次生长GaN缓冲层和n型掺杂GaN层;2)n型掺杂GaN层上生长本征掺杂GaN层;3)本征掺杂GaN层上生长p型掺杂AlGaN层;4)选择性刻蚀外延层材料形成刻蚀台面和双台阶;5)在台面和双台阶上淀积钝化层;6)刻蚀钝化层形成电极孔,并沉积金属电极。本发明是基于PIN结构,因此能够实现快速、准确、高灵敏度的紫外光探测;其次,通过侧栅结构施加的电压能够抑制或消除AlGaN/GaN异质界面处的二维电子气的影响,形成理想型的PIN结构探测器,可以提高探测器的响应速度、探测率、灵敏度等性能。
公开/授权文献
- CN110660882A 一种新型栅控PIN结构GaN紫外探测器及其制备方法 公开/授权日:2020-01-07
IPC分类: