发明公开
- 专利标题: 一种基于二维MXene材料的阻变存储器及制备方法
- 专利标题(英): Resistive random access memory based on two-dimensional MXene material and preparation method
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申请号: CN201910797024.7申请日: 2019-08-27
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公开(公告)号: CN110676376A公开(公告)日: 2020-01-10
- 发明人: 周晔 , 丁光龙 , 杨林 , 韩素婷
- 申请人: 深圳大学
- 申请人地址: 广东省深圳市南山区南海大道3688号
- 专利权人: 深圳大学
- 当前专利权人: 深圳大学
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市南山区南海大道3688号
- 代理机构: 深圳市君胜知识产权代理事务所
- 代理商 王永文; 刘文求
- 主分类号: H01L45/00
- IPC分类号: H01L45/00
摘要:
本发明公开一种基于二维MXene材料的阻变存储器及制备方法,包括基底、依次叠设在所述基底上的第一电极层、活性层以及第二电极层,所述活性层材质为自氧化的二维MXene材料或二维MXene材料与阻变材料的混合物;所述阻变材料包括:氧化物、硫族化合物、氮化物、硅基材料、有机阻变材料、有机无机杂化阻变材料等。本发明将二维材料MXene自氧化或将其与氧化物通过掺杂的方式进行结合并作为活性层来制备RRAM器件,既可以利用二维MXene表面丰富的活性位点也可以利用氧化物等阻变材料本身的优越性能,因此可以得到制备工艺简单、性能更为优越的存储器件。与基于二维材料的存储器相比,本发明所提出的存储器简化了器件制备工艺,降低了成本,更有利于商业化。
IPC分类: