插塞结构、三维存储器的形成方法和三维存储器

发明授权

CN110718504B 插塞结构、三维存储器的形成方法和三维存储器有权

摘要：

本申请实施例公开了一种插塞结构、三维存储器的形成方法和三维存储器，其中，插塞结构的形成方法包括：采用第一刻蚀工艺对连接层表面的介质层和所述连接层进行刻蚀，形成第一插塞孔；采用第二刻蚀工艺，沿所述第一插塞孔的内壁进行刻蚀，形成第二插塞孔；在所述第二插塞孔内沉积导电材料，形成插塞结构。

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70	.由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/71	..限定在组H01L21／70中的器件的特殊部件的制造（H01L21/28，H01L21/44，H01L21/48优先）
H01L21/768	...利用互连在器件中的分离元件间传输电流