发明授权
- 专利标题: 一种低功率激光还原石墨烯膜及其制备方法
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申请号: CN201911067314.2申请日: 2019-11-04
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公开(公告)号: CN110723725B公开(公告)日: 2021-08-10
- 发明人: 张易宁 , 王维 , 冯文豆 , 林嵩岳 , 刘永川 , 李歆 , 陈素晶 , 陈远强 , 林俊鸿 , 张祥昕
- 申请人: 中国科学院福建物质结构研究所
- 申请人地址: 福建省福州市杨桥西路155号
- 专利权人: 中国科学院福建物质结构研究所
- 当前专利权人: 中国科学院福建物质结构研究所
- 当前专利权人地址: 福建省福州市杨桥西路155号
- 代理机构: 北京知元同创知识产权代理事务所
- 代理商 刘元霞; 谢怡婷
- 主分类号: C01B32/184
- IPC分类号: C01B32/184 ; C01B32/198
摘要:
本发明涉及一种通过冷冻干燥法提高氧化石墨烯膜激光还原效率的方法。所述方法包括以下步骤:(1)准备氧化石墨烯分散液;(2)将步骤(1)的氧化石墨烯分散液置于衬底上,制备得到氧化石墨烯分散液膜;(3)冷冻干燥步骤(2)的氧化石墨烯分散液膜,制备得到氧化石墨烯膜;(4)以激光照射还原步骤(3)的氧化石墨烯膜,制备得到石墨烯膜。本发明的方法大幅降低了激光功率,可以利用功率低至1mW的低功率激光器,一次成型还原石墨烯、工艺简单、价格低廉且环境友好,适合大规模生产。本发明制备的石墨烯膜内部结构呈三维、多孔状,具有高比表面积。
公开/授权文献
- CN110723725A 一种低功率激光还原石墨烯膜及其制备方法 公开/授权日:2020-01-24