发明授权
- 专利标题： 一种激光还原石墨烯膜及其制备方法
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申请号： CN201911067940.1申请日： 2019-11-04
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公开(公告)号： CN110723726B公开(公告)日： 2021-08-10
- 发明人: 张易宁 , 王维 , 冯文豆 , 林嵩岳 , 刘永川 , 李歆 , 陈素晶 , 陈远强 , 林俊鸿 , 张祥昕
- 申请人： 中国科学院福建物质结构研究所
- 申请人地址： 福建省福州市杨桥西路155号
- 专利权人： 中国科学院福建物质结构研究所
- 当前专利权人： 中国科学院福建物质结构研究所
- 当前专利权人地址： 福建省福州市杨桥西路155号
- 代理机构： 北京知元同创知识产权代理事务所
- 代理商 刘元霞; 谢怡婷
- 主分类号： C01B32/184
- IPC分类号： C01B32/184
摘要：
本发明属于石墨烯材料技术领域，具体涉及一种激光还原法制备石墨烯膜的方法，包括准备氧化石墨烯分散液、加热；将氧化石墨烯分散液置于衬底上、干燥，以激光照射还原，制备得到石墨烯膜。本发明的方法大幅降低了激光功率，可以利用低至1mW的低功率激光机，一次成型还原石墨烯、工艺简单、价格低廉且环境友好，适合大规模生产。本发明制备的石墨烯膜内部结构呈三维、多孔状，具有高比表面积。
公开/授权文献
- CN110723726A 一种激光还原石墨烯膜及其制备方法 公开/授权日：2020-01-24
