• 专利标题: 基于单层修饰MXene的电存储材料及其制备方法与在制备电存储器件中的应用
  • 专利标题(英): Electric storage material based on single-layer modified MXene, preparation method thereof and application in preparation of electric storage device
  • 申请号: CN201910955506.0
    申请日: 2019-10-09
  • 公开(公告)号: CN110783456A
    公开(公告)日: 2020-02-11
  • 发明人: 路建美贺竞辉
  • 申请人: 苏州大学
  • 申请人地址: 江苏省苏州市相城区济学路8号
  • 专利权人: 苏州大学
  • 当前专利权人: 苏州大学
  • 当前专利权人地址: 江苏省苏州市相城区济学路8号
  • 代理机构: 苏州创元专利商标事务所有限公司
  • 代理商 孙周强; 陶海锋
  • 主分类号: H01L45/00
  • IPC分类号: H01L45/00
基于单层修饰MXene的电存储材料及其制备方法与在制备电存储器件中的应用
摘要:
本发明公开了基于单层修饰MXene的电存储材料及其制备方法与在制备电存储器件中的应用。将烷基膦酸与MXene混合后离心处理,得到单层修饰MXene;将单层修饰MXene制备成膜,得到基于单层修饰MXene的电存储材料。与传统的器件相比,本发明中烷基膦酸修饰的单层MXene薄膜电存储器件的开启电压低,且不同阻态得到了很好区分。
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