发明公开
- 专利标题： 一种石墨烯增强吸收的金属微纳结构及其制备方法
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申请号： CN201811096855.3申请日： 2018-09-20
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公开(公告)号： CN110927838A公开(公告)日： 2020-03-27
- 发明人: 王红航 , 刘黎明 , 刘凯 , 迟锋 , 水玲玲 , 易子川 , 张智 , 屈瑜 , 张中月
- 申请人： 电子科技大学中山学院
- 申请人地址： 广东省中山市石岐区学院路1号
- 专利权人： 电子科技大学中山学院
- 当前专利权人： 电子科技大学中山学院
- 当前专利权人地址： 广东省中山市石岐区学院路1号
- 主分类号： G02B5/00
- IPC分类号： G02B5/00
摘要：
本发明涉及微纳光学领域，具体涉及一种石墨烯增强吸收的金属微纳结构及其制备方法，金属微纳结构以硅或二氧化硅为基底，从下到上依次蒸镀第一金属层、二氧化硅层、第二金属层和第一石墨烯薄膜层，基底层由硅或二氧化硅材料制成，第一金属层和第二金属层由金或银材料制成，通过加入石墨烯薄膜层和金属层之间的耦合作用增强对于入射光的吸收，解决了金属微纳结构吸收率小的问题，结构简单，制备方便。
