- 专利标题: 一种基于公差的几何要素尺寸和位置的模拟装置及方法
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申请号: CN201911239792.7申请日: 2019-12-06
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公开(公告)号: CN110953952B公开(公告)日: 2021-07-02
- 发明人: 吴玉光 , 方博
- 申请人: 杭州电子科技大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道2号大街1158号
- 专利权人: 杭州电子科技大学
- 当前专利权人: 杭州电子科技大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道2号大街1158号
- 代理机构: 浙江千克知识产权代理有限公司
- 代理商 周希良
- 优先权: 2019112189303 20191203 CN
- 主分类号: G01B5/00
- IPC分类号: G01B5/00
摘要:
本发明公开了一种基于公差的几何要素尺寸和位置的模拟装置及方法,本发明涉及的一种基于公差的几何要素尺寸和位置的模拟装置,包括:安装平台、球面几何要素模拟装置、圆柱几何要素的模拟装置、宽度要素的模拟装置;所述数个球面几何要素模拟装置设置于所述安装平台上,用于模拟球面几何要素的尺寸和/或位置;所述数个圆柱几何要素的模拟装置设置于所述安装平台上,用于模拟圆柱几何要素的尺寸和/或位置;所述数个宽度要素的模拟装置均设置于所述安装平台上,用于模拟宽度要素的尺寸和/或位置。本发明的球面、圆柱面、宽度要素模拟装置可以模拟公差相关要求所涉及的目标要素和基准要素的尺寸和位置,为转移公差的检测提供实物模型。
公开/授权文献
- CN110953952A 一种基于公差的几何要素尺寸和位置的模拟装置及方法 公开/授权日:2020-04-03