- 专利标题: 一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法
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申请号: CN201911359367.1申请日: 2019-12-25
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公开(公告)号: CN110954565A公开(公告)日: 2020-04-03
- 发明人: 魏大庆 , 邹永纯 , 杜青 , 郭舒 , 张宝友 , 来忠红
- 申请人: 哈尔滨工业大学
- 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人: 哈尔滨工业大学
- 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
- 代理机构: 哈尔滨市松花江专利商标事务所
- 代理商 岳泉清
- 主分类号: G01N23/04
- IPC分类号: G01N23/04 ; G01N23/20008 ; G01N1/28
摘要:
一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法,本发明涉及制备非均质材料透射样品的方法。本发明要解决现有方法制备的透射样品位置随机性强,不适用于特定区域的透射样品制备的问题。方法:一、待检测区域的选取与保护;二、非均质材料透射试样粗切;三、非均质材料透射试样细切;四、非均质材料透射试样凹形细切;五、非均质材料透射试样样品提取与固定;六、非均质材料透射试样样品精修,即完成利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法。
公开/授权文献
- CN110954565B 一种利用聚焦离子束进行切割制备非均质材料透射样品的方法 公开/授权日:2020-10-02