Invention Grant
- Patent Title: 偏振片、光学设备和偏振片的制备方法
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Application No.: CN201980003286.XApplication Date: 2019-07-30
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Publication No.: CN110998385BPublication Date: 2021-02-02
- Inventor: 澀谷和幸 , 榊原重司 , 菅原利明 , 松野雄介 , 高田昭夫
- Applicant: 迪睿合株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 迪睿合株式会社
- Current Assignee: 迪睿合株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 张桂霞; 杨戬
- Priority: 2018-144093 2018.07.31 JP
- International Application: PCT/JP2019/029863 2019.07.30
- International Announcement: WO2020/027144 JA 2020.02.06
- Date entered country: 2019-12-27
- Main IPC: G02B5/30
- IPC: G02B5/30 ; G02F1/1335
Abstract:
本发明涉及偏振片，该偏振片是具有线栅结构的偏振片，具备透明基板、和在所述透明基板上的第1方向延伸且以比使用波段的光的波长短的间距周期性地排列的多个凸部，所述凸部具备反射层、多层膜、和位于所述反射层与所述多层膜之间的光学特性改善层，所述光学特性改善层含有氧化物，所述氧化物含有构成所述反射层的构成元素，所述光学特性改善层相对于氯系气体的蚀刻速率为所述多层膜的蚀刻速率的6.7倍以上且15倍以下。
Public/Granted literature
- CN110998385A 偏振片、光学设备和偏振片的制备方法 Public/Granted day:2020-04-10
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