- 专利标题: 有机膦酸螯合铜离子插层镁铝水滑石及其制备方法和应用
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申请号: CN202010109955.6申请日: 2020-02-23
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公开(公告)号: CN111215150A公开(公告)日: 2020-06-02
- 发明人: 张华丽 , 张家鑫 , 吴汉军 , 潘志权
- 申请人: 武汉工程大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市洪山区雄楚大街693号
- 专利权人: 武汉工程大学
- 当前专利权人: 武汉工程大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市洪山区雄楚大街693号
- 代理机构: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司
- 代理商 崔友明
- 主分类号: B01J31/26
- IPC分类号: B01J31/26 ; C02F1/30 ; C02F101/30 ; C02F101/38
摘要:
本发明提供一种有机膦酸螯合铜离子插层镁铝水滑石及其制备方法和应用,该方法采用乙二胺四甲叉膦酸螯合铜离子后插层镁铝水滑石制备有机膦酸螯合铜离子插层镁铝水滑石。本发明采用共沉淀与阴离子交换法使乙二胺四甲叉膦酸螯合铜离子后插层镁铝水滑石,一方面,可拓宽有机膦酸螯合铜离子插层镁铝水滑石适用的pH范围,提高其催化稳定性,另一方面层间距大大增大,从而使其具有较高的有机物降解效率,其在可见光下催化降解罗丹明B的降解效率达到98.2%。
公开/授权文献
- CN111215150B 有机膦酸螯合铜离子插层镁铝水滑石及其制备方法和应用 公开/授权日:2022-09-27