发明授权
- 专利标题： 一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法
-
申请号： CN202010068060.2申请日： 2020-01-21
-
公开(公告)号： CN111251493B公开(公告)日： 2022-05-31
- 发明人: 成新云 , 卢红伟 , 安平 , 刘永胜 , 余铁 , 孙春光 , 李海平
- 申请人： 天津利安隆新材料股份有限公司
- 申请人地址： 天津市滨海新区天津经济技术开发区汉沽现代产业区黄山路6号
- 专利权人： 天津利安隆新材料股份有限公司
- 当前专利权人： 天津利安隆新材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： 天津市滨海新区天津经济技术开发区汉沽现代产业区黄山路6号
- 主分类号： B29B9/06
- IPC分类号： B29B9/06 ; C08K5/3492
摘要：
本发明涉及一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法，该方法使用水下模面切粒系统对受阻胺类光稳定剂进行造粒，制得光稳定剂粒子。该工艺解决了传统钢带造粒成本高，物理破碎有粉末，粒子不规整等问题，制得粒子规整、大小均一，无粉尘，无环境污染，设备投资小。
公开/授权文献
- CN111251493A 一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法 公开/授权日：2020-06-09
