发明公开
- 专利标题： 蚀刻剂组合物以及使用蚀刻剂组合物制造金属图案和阵列衬底的方法
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申请号： CN201911217843.6申请日： 2019-12-03
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公开(公告)号： CN111270236A公开(公告)日： 2020-06-12
- 发明人: 金俸均 , 金镇奭 , 沈承辅 , 崔新革 , 金承熙 , 李栋熙 , 金奎佈 , 申贤哲 , 李大雨 , 李秉雄 , 李相赫
- 申请人： 三星显示有限公司 , 株式会社东进世美肯
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 三星显示有限公司,株式会社东进世美肯
- 当前专利权人： 三星显示有限公司,株式会社东进世美肯
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王达佐; 洪欣
- 优先权： 10-2018-0154248 2018.12.04 KR
- 主分类号： C23F1/18
- IPC分类号： C23F1/18 ; C23F1/02 ; C23F1/26
摘要：
本申请涉及蚀刻剂组合物，其包含过硫酸盐、四氮环化合物、二氯化合物、氟化合物和水，并且所述蚀刻剂组合物具有约1:0.5至约1:4的所述四氮环化合物与所述二氯化合物的重量比。所述蚀刻剂组合物可以蚀刻钛/铜的多层并且可以用于制造具有优异的蚀刻图案的性质的金属图案和阵列衬底。
公开/授权文献
- CN111270236B 蚀刻剂组合物以及使用蚀刻剂组合物制造金属图案和阵列衬底的方法 公开/授权日：2023-09-22
IPC分类:
