发明授权
- 专利标题: 一种高质量n型碳化硅及其制备方法
-
申请号: CN202010236876.1申请日: 2020-03-30
-
公开(公告)号: CN111270305B公开(公告)日: 2021-02-19
- 发明人: 方帅 , 高宇晗 , 高超
- 申请人: 山东天岳先进科技股份有限公司
- 申请人地址: 山东省济南市槐荫区天岳南路99号
- 专利权人: 山东天岳先进科技股份有限公司
- 当前专利权人: 山东天岳先进科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 山东省济南市槐荫区天岳南路99号
- 代理机构: 北京君慧知识产权代理事务所
- 代理商 王宽
- 主分类号: C30B23/00
- IPC分类号: C30B23/00 ; C30B29/36
摘要:
本申请公开了一种高质量n型碳化硅晶体的制备方法,包括下述步骤:(1)组装阶段;(2)加热阶段;(3)长晶阶段:将含有氮源气体和惰性保护气体的混合气体通入到所述长晶炉内,控制所述长晶炉至所需的压力,在所述籽晶上生长n型碳化硅晶体;其中,随着n型碳化硅晶体的长晶面下移,逐渐提高氮源气体在混合气体的体积分数。本申请的制备方法中,通过在长晶过程中不断调控氮源气体的体积分数,逐渐提高氮源气体的分压,可以抵消长晶过程中长晶面温度上升不利于氮的掺杂,有效避免了由于高温掺氮量降低,而使得晶体电阻率不合格和不均匀的问题;且通过逐渐提高长晶压力来优化调控晶体中的掺氮量,有效提高了掺氮的均匀性和稳定性。
公开/授权文献
- CN111270305A 一种高质量n型碳化硅及其制备方法 公开/授权日:2020-06-12