本发明公开了一种半导体厂房洁净室，涉及洁净室技术领域，包括有洁净工作室，且洁净工作室内设置有送风系统、回风系统和过滤系统，洁净工作室包括有洁净作业区和加工服务区，且洁净作业区与加工服务区之间设置有分隔区；分隔区包括有垂直送风区和水平送风区，垂直送风区和水平送风区分别形成有纵向气流墙和横向气流墙，且纵向气流墙与横向气流墙之间形成有间隔区间。洁净作业区内设置有矢量送风系统和单向送风系统，加工服务区内设置有乱流送风系统。洁净作业区和加工服务区通过两者中间的分隔区以及各自独立的送风系统、回风系统以及过滤系统，达到限制乱流或者涡流出现的目的，进而达到提高洁净室内空气洁净度的目的。