发明授权
- 专利标题： 一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法
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申请号： CN202010422883.0申请日： 2020-05-19
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公开(公告)号： CN111333433B公开(公告)日： 2020-09-18
- 发明人: 刘一军 , 杨元东 , 张克林 , 王贤超 , 郑贵友
- 申请人： 蒙娜丽莎集团股份有限公司
- 申请人地址： 广东省佛山市南海区西樵轻纺城工业园
- 专利权人： 蒙娜丽莎集团股份有限公司
- 当前专利权人： 蒙娜丽莎集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 广东省佛山市南海区西樵轻纺城工业园
- 代理机构： 上海瀚桥专利代理事务所
- 代理商 曹芳玲; 熊子君
- 主分类号： C04B41/89
- IPC分类号： C04B41/89 ; C04B41/86 ; C03C8/14 ; C03C8/04
摘要：
本发明提供一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法，该制备方法包括：在坯体上依次施远红外面釉、喷墨打印、施透明远红外抛釉、施耐磨远红外抛釉，然后烧成、抛光。通过结合使用远红外面釉、透明远红外抛釉和耐磨远红外抛釉，可使抛釉砖兼具远红外功能、高透感、高耐磨性。
公开/授权文献
- CN111333433A 一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法 公开/授权日：2020-06-26
