本发明公开了一种弯弧加速器内壁镀膜装置及其磁控溅射镀膜方法，其中该弯弧加速器内壁镀膜装置包括真空镀膜通道、溅射靶和磁控管道，真空镀膜通道包括控制室和待镀弯弧通道，待镀弯弧通道的内壁作为待镀工件表面，真空镀膜通道提供真空环境，溅射靶作为通电媒介能提供被溅射出的靶材粒子，磁控管道用于产生磁场。本发明公开的弯弧加速器内壁镀膜装置及其磁控溅射镀膜方法，在待镀弯弧通道的内壁镀上均匀致密、附着力好的吸气薄膜，降低其内部压力分布梯度，减少解吸率，抑制动态真空效应，进而提高弯弧加速器内部真空性能，以提高粒子加速器内粒子束的寿命和品质。