发明公开
- 专利标题: 痕量探测设备
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申请号: CN202010416806.4申请日: 2020-05-18
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公开(公告)号: CN111337598A公开(公告)日: 2020-06-26
- 发明人: 张清军 , 李元景 , 陈志强 , 李荐民 , 朱伟平 , 马秋峰 , 曹彪 , 严李李 , 李鸽 , 杨内
- 申请人: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
- 申请人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 专利权人: 同方威视技术股份有限公司,清华大学
- 当前专利权人: 同方威视技术股份有限公司,清华大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 周永红
- 主分类号: G01N30/02
- IPC分类号: G01N30/02 ; G01N30/16 ; G01N30/20
摘要:
本公开公开了一种痕量探测设备,其包括:离子迁移管,所述离子迁移管被配置成检测样品;采样气路模块,所述采样气路模块被配置成采集样品;进样气路模块,所述进样气路模块被配置成将包含所述采样气路模块所采集的样品的样品载气朝着所述离子迁移管引导;以及气相色谱装置,所述气相色谱装置能够将所述样品载气进行预分离,以形成预分离的样品载气;其中,所述进样气路模块还被配置成能够在第一模式与第二模式之间切换,在所述第一模式下,所述进样气路模块将所述样品载气导入所述离子迁移管;以及在所述第二模式下,所述进样气路模块将所述样品载气导入所述气相色谱装置以对所述样品载气进行预分离,经预分离的样品载气被导入所述离子迁移管。
公开/授权文献
- CN111337598B 痕量探测设备 公开/授权日:2020-09-11