发明授权
- 专利标题: 用于呈现暗场X射线图像信息的装置
-
申请号: CN201880085443.1申请日: 2018-11-22
-
公开(公告)号: CN111542267B公开(公告)日: 2024-07-16
- 发明人: R·维姆科 , A·亚罗申科 , K·林特 , J·萨巴奇恩斯基 , T·克勒 , H-I·马克
- 申请人: 皇家飞利浦有限公司
- 申请人地址: 荷兰艾恩德霍芬
- 专利权人: 皇家飞利浦有限公司
- 当前专利权人: 皇家飞利浦有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰艾恩德霍芬
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 刘兆君
- 国际申请: PCT/EP2018/082147 2018.11.22
- 国际公布: WO2019/110313 EN 2019.06.13
- 进入国家日期: 2020-07-03
- 主分类号: A61B6/00
- IPC分类号: A61B6/00 ; A61B6/50
摘要:
本发明涉及一种用于呈现暗场信息的装置(10)。它描述了:提供(210)对象的感兴趣区域的X射线衰减图像;还提供(220)所述对象的所述感兴趣区域的暗场X射线图像;基于所述感兴趣区域的所述X射线衰减图像或者基于所述感兴趣区域的所述暗场X射线图像来定义(230)所述感兴趣区域的多个子区域;针对所述多个子区域中的每个子区域导出(240)至少一个定量值,其中,针对子区域的所述至少一个定量值包括根据所述子区域的所述X射线衰减图像导出的数据和根据所述子区域的所述暗场X射线图像导出的数据;向所述多个子区域分配(250)多个品质因数,其中,针对子区域的品质因数基于针对所述子区域的所述至少一个定量值;并且输出(260)表示所述感兴趣区域的数据以及针对相应的子区域的品质因数。
公开/授权文献
- CN111542267A 用于呈现暗场X射线图像信息的装置 公开/授权日:2020-08-14