发明公开
CN111559152A 一种高光谱伪装材料及其制备方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 一种高光谱伪装材料及其制备方法
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申请号: CN202010322073.8申请日: 2020-04-22
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公开(公告)号: CN111559152A公开(公告)日: 2020-08-21
- 发明人: 尹小龙 , 袁农 , 冯云成 , 江林嘉 , 左俊 , 杜兴波 , 邱鹏 , 刘勇
- 申请人: 四川智溢实业有限公司
- 申请人地址: 四川省成都市高新区(西区)天勤路789号
- 专利权人: 四川智溢实业有限公司
- 当前专利权人: 四川智溢实业有限公司
- 当前专利权人地址: 四川省成都市高新区(西区)天勤路789号
- 代理机构: 成都点睛专利代理事务所
- 代理商 霍淑利
- 主分类号: B32B27/36
- IPC分类号: B32B27/36 ; B32B27/30 ; B32B27/06 ; B32B33/00 ; B29C69/00 ; B29L7/00 ; B29L9/00 ; C08L29/04 ; C08L1/28 ; C08K13/04 ; C08K5/053 ; C08K3/30 ; C08K7/24 ; F41H3/02
摘要:
本发明涉及一种高光谱伪装材料,包括由下至上依次层叠设置的底材、高光谱材料和封装膜材料;高光谱材料包括:100-230份高光谱材料基体和4-21.4份多种颜料色浆;高光谱材料基体包括:1000份去离子水、0.5份硅烷偶联剂、2份甘油、50份结晶水合物、5份贝壳粉、100份水性多羟基树脂和25份纤维素;多种颜料色浆包括:210-260份去离子水、2份润湿剂、3-32份分散剂、0.5-1.4份消泡剂、0.15-6.5份羟乙基纤维素和60-81份色粉。本发明的高光谱伪装材料具有水吸收特征峰(1460nm、1940nm),可以有效模拟植被光谱反射曲线,在可见光到近红外波段(400-2500nm)满足GJB1082-91相关色度学数据要求和GJB1411A-2015绿色植被标准光谱通道曲线要求,可以有效降低装备在林地背景中被高光谱侦察设备发现的概率。