发明授权
- 专利标题: 阵列基板、液晶显示面板及其制备方法
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申请号: CN202010521961.2申请日: 2020-06-10
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公开(公告)号: CN111596495B公开(公告)日: 2023-04-14
- 发明人: 杨志 , 张骥 , 王喜鹏 , 徐超 , 郭坤 , 程石 , 刘信 , 谢斌 , 李彦辉 , 盛子沫
- 申请人: 武汉京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东西湖区五环大道1011号;
- 专利权人: 武汉京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 武汉京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市东西湖区五环大道1011号;
- 代理机构: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 刘红彬
- 主分类号: G02F1/1362
- IPC分类号: G02F1/1362 ; G02F1/1335
摘要:
本发明涉及显示面板技术领域,公开了一种阵列基板、液晶显示面板及其制备方法,该阵列基板包括衬底、半导体层、第一金属层以及光致变色层,光致变色层位于衬底和半导体层之间;第一金属层位于半导体层背离衬底的一侧;光致变色层包括受可见光照射时颜色变深的有效区以及透明的无效区,第一金属层和半导体层在衬底的正投影均被有效区在衬底的正投影覆盖。当可见光沿衬底向第一金属层的方向照射阵列基板时,有效区颜色会加深,可见光仅会透过有效区之外部分的透明的无效区,而不会照射到半导体层,减少了半导体层因光照的影响而具有导体性质的现象的发生,减少背光光照区域和无背光光照区域之间存在的像素充电差异,改善了画面显示不均的现象。
公开/授权文献
- CN111596495A 阵列基板、液晶显示面板及其制备方法 公开/授权日:2020-08-28
IPC分类: