- 专利标题: 一种高亮度深紫外LED用图形化蓝宝石衬底及其制备方法
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申请号: CN202010472434.7申请日: 2020-05-29
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公开(公告)号: CN111613704B公开(公告)日: 2021-05-18
- 发明人: 徐良 , 郭炜 , 孙海定 , 李昌勋 , 史伟言 , 刘建哲 , 李京波 , 夏建白
- 申请人: 黄山博蓝特半导体科技有限公司
- 申请人地址: 安徽省黄山市黄山九龙低碳经济园区翠薇北路66号
- 专利权人: 黄山博蓝特半导体科技有限公司
- 当前专利权人: 黄山博蓝特光电技术有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省黄山市黄山九龙低碳经济园区翠薇北路66号
- 代理机构: 芜湖众汇知识产权代理事务所
- 代理商 曹宏筠
- 主分类号: H01L33/20
- IPC分类号: H01L33/20 ; H01L33/12 ; H01L33/46 ; H01L33/00
摘要:
本发明公开了一种高亮度深紫外LED用图形化蓝宝石衬底及其制备方法。该蓝宝石衬底,包括蓝宝石晶片,所述蓝宝石晶片包括晶片C面,在晶片C面上分布有刻蚀孔,所述刻蚀孔包括底部沉孔和扩孔,所述晶片C面及扩孔的表面沉积有一层AlN/AlGaN薄膜,所述底部沉孔内设置有纳米级图形或DBR反射层。该高亮度深紫外LED用图形化蓝宝石衬底的制备方法依次为涂胶、纳米压印,刻蚀,沉积AlN/AlGaN薄膜,涂胶,曝光、显影,刻蚀,涂胶,曝光、显影,沉积纳米晶粒或沉积DBR反射层等工序。通过本发明获得的图形化蓝宝石衬底结构,能够显著提高蓝宝石晶片的深紫外光折射率,进而大幅度提高LED器件的光提取率,最终提高UVC LED的亮度,该图形化衬底技术可广泛应用于UVC LED制造领域。
公开/授权文献
- CN111613704A 一种高亮度深紫外LED用图形化蓝宝石衬底及其制备方法 公开/授权日:2020-09-01
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