- 专利标题: 一种氮化硅纳米银复合电沉积涂层及其制备方法与应用
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申请号: CN202010424733.3申请日: 2020-05-19
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公开(公告)号: CN111663166A公开(公告)日: 2020-09-15
- 发明人: 张鹏 , 曹琳 , 王启伟 , 李双建 , 王永喆
- 申请人: 暨南大学
- 申请人地址: 广东省广州市天河区黄埔大道西601号
- 专利权人: 暨南大学
- 当前专利权人: 安徽盛赛再制造科技有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省广州市天河区黄埔大道西601号
- 代理机构: 广州市华学知识产权代理有限公司
- 代理商 饶周全
- 主分类号: C25D15/00
- IPC分类号: C25D15/00 ; C25D5/36 ; C25D5/38 ; B82Y30/00
摘要:
本发明属于氮化硅纳米复合表面涂层制备技术领域,具体公开了一种Si3N4纳米银复合电沉积涂层及其制备方法与应用。步骤为:(1)将壳聚糖溶液与其他阳离子分散剂混合均匀,然后依次加入Si3N4粉和纳米银得到混合溶液;(2)将所得混合溶液经剪切分散得到纳米悬浮液,然后调节pH至中性;(3)将阴极和阳极电极材料放入所得纳米悬浮溶液中;并通入直流电,沉积得到Si3N4纳米银复合涂层;本发明提供的Si3N4纳米银复合电沉积涂层,可以代替电镀铬涂层。该涂层制备简单快捷,环保无污染,且制备涂层对于基底材料有良好的保护作用,提高材料耐磨性能,解决特异构件镀层问题。
公开/授权文献
- CN111663166B 一种氮化硅纳米银复合电沉积涂层及其制备方法与应用 公开/授权日:2021-07-23