一种适用于探索共体反射镜上薄膜制备工艺参数的装置，属于金属薄膜制备与检测技术领域。本发明包括外部框架、多个支撑柱和多个平面基底，所述外部框架上的四个竖直设置的支撑板上分别设有多个定位孔，所述多个定位孔、多个支撑柱以及多个平面基底数量均相同；每个所述支撑柱一端可拆卸固定插入定位孔内，每个支撑柱另一端设置在外部框架内并与平面基底一端可拆卸固定连接，所述平面基底另一端的端面与自由曲面相切。本发明具有与多面共体反射镜相同的表面粗糙度与相近的空间结构，而且便于检测，可以较为简单、准确、经济地获得沉积的工艺参数和靶基运动。