- 专利标题: 一种采用热退火后合成技术制备MOF纳滤膜的方法
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申请号: CN202010551037.9申请日: 2020-06-16
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公开(公告)号: CN111672330A公开(公告)日: 2020-09-18
- 发明人: 王乃鑫 , 李晓婷 , 孙皓 , 王湘琼 , 李杰 , 安全福
- 申请人: 北京工业大学
- 申请人地址: 北京市朝阳区平乐园100号
- 专利权人: 北京工业大学
- 当前专利权人: 北京工业大学
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区平乐园100号
- 代理机构: 北京思海天达知识产权代理有限公司
- 代理商 张立改
- 主分类号: B01D67/00
- IPC分类号: B01D67/00 ; B01D69/12 ; B01D69/02 ; B01D61/00
摘要:
一种采用热退火后合成技术制备MOF纳滤膜的方法,属于膜分离领域,包括以下步骤:将多孔陶瓷基底进行超声预处理,活化及清理陶瓷基底表面。首先,在陶瓷基底表面涂覆金属凝胶,之后将陶瓷基底置于含有有机配体的溶液中,使MOF纳米颗粒在陶瓷基底上原位生长从而形成连续无缺陷的MOF分离层。将合成的MOF复合膜进行高温后合成改性,通过调控退火温度,退火时间,升温速率,降温速率等,活化MOF颗粒内部微观结构及调控MOF分离层的厚度和形貌。本发明方法制备的MOF分离膜与基底结合力良好,可以有效提高分离过程中的传质速率,从而在不牺牲截留率的情况下,提高分离膜的通量。
公开/授权文献
- CN111672330B 一种采用热退火后合成技术制备MOF纳滤膜的方法 公开/授权日:2022-04-08