发明公开
- 专利标题: 表面处理剂
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申请号: CN202010691124.4申请日: 2016-08-30
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公开(公告)号: CN111690127A公开(公告)日: 2020-09-22
- 发明人: 星野泰辉 , 高尾清贵 , 户田和江 , 石关健二 , 磯部辉
- 申请人: AGC株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: AGC株式会社
- 当前专利权人: AGC株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 刘多益; 张佳鑫
- 优先权: 2015-171986 2015.09.01 JP
- 主分类号: C08G65/336
- IPC分类号: C08G65/336 ; C08G65/329 ; C08G65/00 ; C08F259/08 ; C07F7/18 ; C09D171/00 ; C09D201/04 ; C09D201/10 ; B32B33/00
摘要:
本发明提供能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性以及外观优良的表面层的表面处理剂。所述表面处理剂含有以A1-O-(Rf1O)m1-Q1-[C(O)N(R1)]p1-R11-C[-R12-SiR13n1X13-n1]3表示的含氟醚化合物。其中,A1:碳数1~20的全氟烷基,Rf1:不具有分支结构的氟代亚烷基,m1:2~210的整数,(Rf1O)m1由同1种或2种以上的Rf1O形成,Q1:单键或不具有分支结构的氟代亚烷基,R1:氢原子等,p1:0或1,R11:单键、亚烷基等,R12:亚烷基等,R13:1价烃基等,X1:水解性基团,n1:0~2的整数,3个[-R12-SiR13n1X13-n1]全为相同的基团或不同的基团。
公开/授权文献
- CN111690127B 表面处理剂 公开/授权日:2023-04-11