本发明公开了一种曝光机的调整方法及装置，通过对基板上的光刻胶当前选取的多个预设区域进行图形化，使光刻胶上产生多个图形化后的预设区域。通过确定出图形化后的两行预设区域内图形完整的预设区域，以根据选取的每一行图形完整的预设区域对应的预设曝光距离，确定选取的两行预设区域分别对应的目标距离。这样在确定两行预设区域对应的目标距离之差不满足预设阈值范围时，说明DMD与基板所在平面不完全平行，从而可以根据目标距离之差调整激光头中的数字微镜装置的角度。可以重新选取多个预设区域进行图形化以及确定选取的两行预设区域分别对应的目标距离，直至目标距离之差满足预设阈值范围为止，以确保DMD与基板所在平面尽可能完全平行。