发明授权
- 专利标题： 一种微射流均质腔及其制作方法
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申请号： CN202010480335.3申请日： 2020-05-30
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公开(公告)号： CN111729527B公开(公告)日： 2022-09-13
- 发明人: 徐剑青 , 龚力 , 张海涛 , 余凌云
- 申请人： 上海莱谊纳米科技有限公司
- 申请人地址： 上海市松江区泖港镇中民路599弄1号4幢233室
- 专利权人： 上海莱谊纳米科技有限公司
- 当前专利权人： 上海莱谊纳米科技有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市松江区泖港镇中民路599弄1号4幢233室
- 主分类号： B01F25/23
- IPC分类号： B01F25/23 ; B01F33/301 ; B01F35/10 ; B01F35/00
摘要：
本发明涉及一种微射流均质腔，其包括均质腔外壳，均质腔外壳包括可拆卸固定连接的第一壳体和第二壳体，第一壳体和第二壳体之间内可拆卸固定有混合块体，混合块体上贯穿开设有微通道，微通道在混合块体内开设有多条，多条微通道中至少存在两条微通道呈相互交叉设置，相互交叉设置的两个微通道的交汇处形成有冲击弯，微通道靠近入口通道的为进口端，微通道靠近出口通道的为出口端。本发明具有混合块体便于安装、改善均质效果的优点。
公开/授权文献
- CN111729527A 一种微射流均质腔及其制作方法 公开/授权日：2020-10-02
