发明授权
- 专利标题: 掩模元件原版和浮雕图像形成系统
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申请号: CN201980013466.6申请日: 2019-02-04
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公开(公告)号: CN111771162B公开(公告)日: 2024-05-14
- 发明人: K.M.基尼 , E·A·富伦卡姆 , M·Z·阿里
- 申请人: 米瑞控公司
- 申请人地址: 美国明尼苏达州
- 专利权人: 米瑞控公司
- 当前专利权人: 米瑞控公司
- 当前专利权人地址: 美国明尼苏达州
- 代理机构: 隆天知识产权代理有限公司
- 代理商 吴小瑛; 张福根
- 国际申请: PCT/US2019/016442 2019.02.04
- 国际公布: WO2019/160702 EN 2019.08.22
- 进入国家日期: 2020-08-14
- 主分类号: G03F7/027
- IPC分类号: G03F7/027 ; G03F7/20
摘要:
一种可用于形成掩模元件的可成像材料,该掩模元件又可用于例如在柔性版印刷版中提供浮雕图像。可成像材料依次具有:(a)透明聚合物载体片材;(b)不可消融的光热转换层,其平均干厚度为1‑5μm并且包含:(i)0.1‑5重量%的红外辐射吸收材料;(ii)热交联的有机聚合物粘合剂材料;和(iii)不可热消融颗粒,其平均粒径为0.1‑20μm,含量为0.2‑10重量%;和(c)设置在LTHC层上的非卤化银的可热消融成像层(IL),该IL包含分散在一种或多种可热消融的聚合物粘合剂材料中的第二红外辐射吸收材料和UV光吸收材料。
公开/授权文献
- CN111771162A 掩模元件原版和浮雕图像形成系统 公开/授权日:2020-10-13
IPC分类: