发明授权
- 专利标题: 无分层无皱褶的平面电容的制作方法
-
申请号: CN202010485614.9申请日: 2020-06-01
-
公开(公告)号: CN111799091B公开(公告)日: 2021-05-18
- 发明人: 李峰 , 卢星华 , 陶玉红 , 杨柳 , 周智勇 , 李雪
- 申请人: 深圳市峰泳科技有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市龙岗区南湾街道南岭村社区健民路2号启迪科技园B栋B301
- 专利权人: 深圳市峰泳科技有限公司
- 当前专利权人: 深圳市峰泳科技有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市龙岗区南湾街道南岭村社区健民路2号启迪科技园B栋B301
- 代理机构: 上海波拓知识产权代理有限公司
- 代理商 蔡光仟
- 主分类号: H01G4/32
- IPC分类号: H01G4/32 ; H01G4/005 ; H01G4/18
摘要:
本发明公开了一种无分层无皱褶的平面电容的制作方法,所述制作方法包括:制作用于形成介质层的介质层浆料;将介质层浆料涂布在第一金属箔材的表面上,对介质层浆料进行干燥处理,使第一金属箔材的表面上形成介质层;将附着有介质层的第一金属箔材与第二金属箔材进行覆合,第一金属箔材附着有介质层的表面朝向第二金属箔材并进行覆合,得到平面电容;将平面电容以第一金属箔材为内侧、第二金属箔材为外侧的方式进行收卷。覆合的第二面箔材在收卷时的受力状态由原来在内圈的“支撑”变更为外圈的“贴附”作用,以使收卷后的平面电容平整无分层无皱褶,避免因收卷不良问题导致介质层被破坏,充分保证涂布介质层的性能。
公开/授权文献
- CN111799091A 无分层无皱褶的平面电容的制作方法 公开/授权日:2020-10-20