本发明公开了一种可回收利用气体的等离子体射流产生系统，其包括等离子体射流组件、混气腔、工作气体供气通路和前驱气体供气通路，工作气体供气通路接入混气腔，用于提供工作气体，前驱气体供气通路接入混气腔，用于提供携带单体材料的前驱气体，混气腔将工作气体和前驱气体混合后给等离子体射流组件供气，使得等离子体射流组件喷射等离子体射流，还包括防护罩和回气通路，防护罩用于罩设在被处理材料表面形成隔绝外界空气的密闭空间，等离子体射流仅能喷射在密闭空间内，防护罩上设有回气口，回气口通过回气通路接入混气腔。本发明可以排除外界杂质气体对材料表面处理的干扰，加强等离子体射流处理效果，同时有效减少气体浪费，提升环保经济性。