- 专利标题: 一种力电耦合下氢致裂纹扩展行为评价装置及方法
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申请号: CN202010751401.6申请日: 2020-07-30
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公开(公告)号: CN111965022A公开(公告)日: 2020-11-20
- 发明人: 王竹 , 姚星城 , 王修云 , 邢云颖 , 杜艳霞 , 张雷
- 申请人: 北京科技大学 , 安科工程技术研究院(北京)有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区学院路30号
- 专利权人: 北京科技大学,安科工程技术研究院(北京)有限公司
- 当前专利权人: 北京科技大学,安科工程技术研究院(北京)有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区学院路30号
- 代理机构: 北京金智普华知识产权代理有限公司
- 代理商 皋吉甫
- 主分类号: G01N3/08
- IPC分类号: G01N3/08 ; G01N3/04
摘要:
本发明提供了一种力电耦合下氢致裂纹扩展行为评价装置及方法,涉及金属材料性能评价技术领域,能够实现力电耦合下氢致裂纹扩展行为评价试验,并且避免电场和溶液介质对位移测量仪器的损伤;该装置包括:实验舱,用于模拟实验环境,在待测样品周围提供具有导电性的介质;应力加载系统,用于给待测样品施加应力;电场干扰系统,用于给待测样品施加干扰电场;位移转移系统,与待测样品连接,用于将待测样品裂纹尺寸的变化转移出来;位移监测系统,与位移转移系统连接,用于通过位移转移系统测量待测样品的裂纹尺寸。本发明提供的技术方案适用于氢致裂纹扩展行为评价的过程中。
公开/授权文献
- CN111965022B 一种力电耦合下氢致裂纹扩展行为评价装置及方法 公开/授权日:2022-10-11