发明公开
- 专利标题: 一种发光基板及其制备方法
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申请号: CN202010906721.4申请日: 2020-09-01
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公开(公告)号: CN112018264A公开(公告)日: 2020-12-01
- 发明人: 刘军 , 方金钢 , 张扬 , 苏同上 , 何为 , 周斌 , 刘宁
- 申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市新站区工业园内
- 专利权人: 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市新站区工业园内
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 李文博
- 主分类号: H01L51/52
- IPC分类号: H01L51/52 ; H01L51/56 ; H01L27/32 ; H01L33/52 ; H01L27/15 ; F21S2/00
摘要:
本发明涉及照明与显示技术领域,尤其涉及一种发光基板及其制备方法。用于进一步提高水汽隔离效果。一种发光基板,包括:衬底、设置于衬底上且位于隔离区的隔离部、设置于衬底上且位于发光区的第二绝缘图案层,设置于衬底上且覆盖发光区和隔离区的第一导电薄膜,隔离部包括:沿远离所述衬底的方向依次设置的第一导电图案层、第二导电图案层和第一绝缘图案层;第一导电图案层在衬底上的正投影位于第二导电图案层在衬底上的正投影的边沿以内,且二者之间具有第一间隙;第一绝缘图案层与第二绝缘图案层同层设置且之间具有第二间隙;第一导电薄膜位于第二绝缘图案层远离衬底的一侧,且第一导电薄膜在隔离部靠近发光区的一侧断开。
公开/授权文献
- CN112018264B 一种发光基板及其制备方法 公开/授权日:2023-04-28
IPC分类: