Invention Publication
- Patent Title: 一种羟基化氮化硼复合膜及其制备方法和应用
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Application No.: CN202010926016.0Application Date: 2020-09-07
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Publication No.: CN112023702APublication Date: 2020-12-04
- Inventor: 胡念武 , 刘雄斌 , 高颂 , 晏群山 , 舒灏 , 倪家志 , 田陈磊 , 汪丹
- Applicant: 湖北中烟工业有限责任公司 , 湖北新业烟草薄片开发有限公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市东西湖区金山大道北1355号
- Assignee: 湖北中烟工业有限责任公司,湖北新业烟草薄片开发有限公司
- Current Assignee: 湖北中烟工业有限责任公司,湖北新业烟草薄片开发有限公司
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市东西湖区金山大道北1355号
- Agency: 浙江千克知识产权代理有限公司
- Agent 裴金华
- Main IPC: B01D61/14
- IPC: B01D61/14 ; B01D67/00 ; B01D69/02 ; B01D69/12 ; B01D71/02 ; B01D71/34 ; C02F1/28 ; C02F1/44 ; C02F101/36 ; C02F101/38

Abstract:
本发明公开了一种羟基化氮化硼复合膜。将羟基化氮化硼、MXene和金属氢氧化铁纳米胶体在液相中混合均匀后,均匀分散在支撑基底上,水分抽干后成膜,用稀酸去除金属氢氧化铁纳米胶体,真空干燥后制得具有微孔结构的羟基化氮化硼复合膜。羟基化氮化硼的引入增强了复合膜的亲水性,通过氢氧化铁纳米颗粒的造孔,在复合膜内部形成微孔结构,使复合膜渗水性好。羟基化氮化硼与MXene之间存在氢键相互作用,使得复合膜层不易脱落,增加了羟基化氮化硼复合膜的机械性能。羟基化氮化硼复合膜中丰富的羟基增强了复合膜对亚甲基蓝的吸附作用。
Public/Granted literature
- CN112023702B 一种羟基化氮化硼复合膜及其制备方法和应用 Public/Granted day:2022-02-08
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