Invention Grant
- Patent Title: 双工位抛光机
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Application No.: CN202011055443.2Application Date: 2020-09-29
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Publication No.: CN112045547BPublication Date: 2025-02-18
- Inventor: 刘小平 , 凌建军 , 郭克文 , 文斌
- Applicant: 湖南宇环精密制造有限公司
- Applicant Address: 湖南省长沙市长沙经济技术开发区泉塘街道映霞路4号
- Assignee: 湖南宇环精密制造有限公司
- Current Assignee: 湖南宇环精密制造有限公司
- Current Assignee Address: 湖南省长沙市长沙经济技术开发区泉塘街道映霞路4号
- Agency: 长沙朕扬知识产权代理事务所
- Agent 厉田
- Main IPC: B24B29/00
- IPC: B24B29/00 ; B24B27/00 ; B24B49/16 ; B24B41/06 ; B24B41/02

Abstract:
本发明公开了一种双工位抛光机,包括机架、横移驱动组、升降驱动组、双工位压力平衡装置和抛光组,双工位压力平衡装置包括固定机座、升降机座、平衡升降机构、一对压力传感器和一对装夹工装,平衡升降机构安装在固定机座上,升降机座安装平衡升降机构上,一对压力传感器分别安装在固定机座和升降机座上,一对装夹工装分别安装在一对压力传感器上,一对压力传感器以及升降机构之间通过信号联接,横移驱动组安装在机架上,固定机座与横移驱动组连接,升降驱动组安装在机架上,抛光组与升降驱动组连接。该双工位抛光机具有结构简单可靠、能实现双工位抛光力度平衡、能提高产品质量的优点。
Public/Granted literature
- CN112045547A 双工位抛光机 Public/Granted day:2020-12-08
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