本发明涉及抛光领域，公开了一种流体线射流抛光装置及其应用方法，所述线射流喷嘴包括连接部、入口、壳体、汇集腔以及出口；其中，所述壳体设置在所述线射流喷嘴外部，所述汇集腔设置在所述线射流喷嘴内部，所述汇集腔的上部设有所述入口，所述入口处设有与所述高压抛光液供给系统相连的连接部，所述汇集腔的下部设有所述出口；所述出口的长度与宽度比值为2‑50；所述高压抛光液供给系统输出的高压抛光液通过所述入口，经所述汇集腔在所述出口喷射出高压高速的流体线性射流，产生比传统单射流抛光能量更高、比线性射流阵列抛光作用效果更加稳定的排线式射流。本发明设计合理、经济有效，在超精密抛光领域具有重要的推广应用价值。