防护膜组件、曝光原版、曝光装置及半导体装置的制造方法
Abstract:
本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件(100)具有:防护膜(101);支撑上述防护膜的支撑框(103);设置于上述支撑框的突起部(105);设置于上述突起部的第1粘接层(107);以及无机物层,上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层(109),上述第1无机物层(109)设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面(121)。
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