- 专利标题: 一种基于双折射光学膜层抑制板条激光器中自发辐射放大的结构及方法
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申请号: CN202011039454.1申请日: 2020-09-28
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公开(公告)号: CN112134130A公开(公告)日: 2020-12-25
- 发明人: 郑天然 , 王方 , 胡东霞 , 李明中 , 刘红婕 , 孙喜博
- 申请人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 申请人地址: 四川省绵阳市绵山路64号
- 专利权人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 当前专利权人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 当前专利权人地址: 四川省绵阳市绵山路64号
- 代理机构: 绵阳市博图知识产权代理事务所
- 代理商 黎仲
- 主分类号: H01S3/06
- IPC分类号: H01S3/06
摘要:
本发明公开了一种基于双折射光学膜层抑制板条激光器中自发辐射放大的结构及方法,属于激光技术领域,包括依次排列的激光增益介质、双折射光学膜层和折射率匹配液构成,其中,所述双折射光学膜层为对S光和P光的折射率不同,且至少对S光和P光之一的折射率低于所述激光增益介质的折射率,所述折射率匹配液的折射率高于所述激光增益介质的折射率,根据需要还可设置吸收玻璃;本发明有效的解决了板条激光器中自发辐射放大的抑制难题,低于临界角的自发辐射放大光基本消除,对于超过临界角的P偏振态自发辐射放大光显著抑制,提高了激光输出的偏振纯度,具有原理简单,操作简便等优点。
公开/授权文献
- CN112134130B 一种基于双折射光学膜层抑制板条激光器中自发辐射放大的结构及方法 公开/授权日:2022-06-28