Invention Publication
CN112164620A 一种真空灭弧室结构
审中-实审
- Patent Title: 一种真空灭弧室结构
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Application No.: CN202011231639.2Application Date: 2020-11-06
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Publication No.: CN112164620APublication Date: 2021-01-01
- Inventor: 毕冬丽 , 李春香
- Applicant: 陕西宝光真空电器股份有限公司
- Applicant Address: 陕西省宝鸡市渭滨区宝光路53号
- Assignee: 陕西宝光真空电器股份有限公司
- Current Assignee: 陕西宝光真空电器股份有限公司
- Current Assignee Address: 陕西省宝鸡市渭滨区宝光路53号
- Agency: 北京品源专利代理有限公司
- Agent 胡彬
- Main IPC: H01H33/662
- IPC: H01H33/662 ; H01H33/664

Abstract:
本发明涉及电气设备,公开了一种真空灭弧室结构。真空灭弧室结构包括绝缘外壳、屏蔽筒、静导电杆以及动导电杆,屏蔽筒的两端分别连接于两个绝缘外壳,绝缘外壳与屏蔽筒之间形成真空腔,静导电杆和动导电杆穿设于真空腔并能够相互抵接,以在真空腔内形成电场,本发明还包括第一屏蔽环组件和第二屏蔽环组件,第一屏蔽环组件设置于真空腔内并连接于一个绝缘外壳内壁,静导电杆穿设于第一屏蔽环组件,第二屏蔽环组件设置于真空腔内并连接于另一个绝缘外壳内壁,动导电杆穿设于第二屏蔽环组件,第一屏蔽环组件和第二屏蔽环组件共同用于均衡真空腔内电场。
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