Invention Publication
- Patent Title: 基于CCD液位检测的薄带连铸熔池液位控制方法和装置
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Application No.: CN202011064926.9Application Date: 2020-09-30
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Publication No.: CN112180997APublication Date: 2021-01-05
- Inventor: 李振垒 , 袁国 , 汤洋 , 张元祥 , 康健 , 张晓明 , 王黎筠 , 王国栋
- Applicant: 东北大学
- Applicant Address: 辽宁省沈阳市和平区文化路3号巷11号
- Assignee: 东北大学
- Current Assignee: 东北大学
- Current Assignee Address: 辽宁省沈阳市和平区文化路3号巷11号
- Agency: 北京中强智尚知识产权代理有限公司
- Agent 黄耀威
- Main IPC: G05D9/12
- IPC: G05D9/12

Abstract:
本发明公开了一种基于CCD液位检测的薄带连铸熔池液位控制方法、装置、存储介质及计算机设备。其中方法包括:通过CCD液位检测系统检测熔池不同位置的液位高度,并将不同位置的液位高度输入到液位高度数据处理模型中,得到熔池内的实时液位高度;将熔池内的实时液位高度和目标液位高度分别输入到熔池液位高度与熔池内钢液体积之间的对应函数中,得到实时钢液体积和目标钢液体积;根据实时钢液体积和目标钢液体积,得到钢液体积变化速率,并在开浇时根据钢液体积变化速率对铸辊拉速进行闭环控制;当铸辊拉速和熔池内的实时液位高度达到预设的稳定状态后,采用过程参数PID控制器控制熔池内的液位高度,使熔池液位保持稳定状态。上述方法可以提高熔池液位控制精确性。
Public/Granted literature
- CN112180997B 基于CCD液位检测的薄带连铸熔池液位控制方法和装置 Public/Granted day:2021-10-19
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