Invention Grant
- Patent Title: 一种工业弱缺陷分割方法
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Application No.: CN202011106019.6Application Date: 2020-10-15
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Publication No.: CN112200826BPublication Date: 2023-11-28
- Inventor: 李莉 , 刘靖谊 , 汪红兵
- Applicant: 北京科技大学
- Applicant Address: 北京市海淀区学院路30号
- Assignee: 北京科技大学
- Current Assignee: 北京科技大学
- Current Assignee Address: 北京市海淀区学院路30号
- Agency: 北京市广友专利事务所有限责任公司
- Agent 张仲波
- Main IPC: G06F7/544
- IPC: G06F7/544 ; G06T7/136
Abstract:
本发明提供一种工业弱缺陷分割方法，属于工业射线底片缺陷的图像分割技术领域。所述方法包括：利用局部对比度增强算法对原始图像进行目标强化和去噪后，生成显著度图；利用动态权重调整的最大类间方差法对生成的显著度图进行自适应阈值分割，得到若干个区域，其中，每个区域为目标或背景，目标为缺陷。采用本发明，能够在提高复杂背景下缺陷的分割准确率的同时，降低虚警率。
Public/Granted literature
- CN112200826A 一种工业弱缺陷分割方法 Public/Granted day:2021-01-08
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