Invention Grant
- Patent Title: 一种聚焦型光场相机系统的参数设计方法
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Application No.: CN202011098002.0Application Date: 2020-10-14
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Publication No.: CN112235508BPublication Date: 2021-10-29
- Inventor: 刘旭 , 朱斐越
- Applicant: 浙江大学
- Applicant Address: 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
- Assignee: 浙江大学
- Current Assignee: 浙江大学
- Current Assignee Address: 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
- Agency: 杭州天勤知识产权代理有限公司
- Agent 颜果
- Main IPC: H04N5/232
- IPC: H04N5/232

Abstract:
本发明涉及一种聚焦型光场相机系统的参数设计方法,属于计算成像领域。利用聚焦型光场相机结构灵活的特点,从对光场图像的分辨率分析中,得到了光场相机内部几何参数对系统成像效果的影响情况,从而根据实际需要选取合适的系统结构参数,最大化利用已有探测器和光学结构的性能,完成系统的设计。通过几何光学原理,分析主透镜以及微透镜阵列成像关系,通过微透镜成像物像距之比决定空间、角度分辨率的分配,再结合对深度分辨率以及成像深度范围的分析,综合考虑得到聚焦型光场相机的系统设计参数。本发明提出的设计方法,可以为聚焦型光场相机在不同的应用场景提供相应的设计方案,为其在光场深度估计精度的计算方面提供理论依据。
Public/Granted literature
- CN112235508A 一种聚焦型光场相机系统的参数设计方法 Public/Granted day:2021-01-15
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