发明公开
- 专利标题: 基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质
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申请号: CN202010662689.X申请日: 2020-07-10
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公开(公告)号: CN112241109A公开(公告)日: 2021-01-19
- 发明人: 梶原正幸 , 一野克宪 , 石丸大辅 , 田尻卓也 , 山本笃 , 今村真人 , 牟田友彦 , 入山哲郎 , 坂本丈明 , 冈口广树 , 安达健二
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇
- 优先权: 2019-133616 2019.07.19 JP
- 主分类号: G03F7/16
- IPC分类号: G03F7/16 ; H01L21/027
摘要:
本发明提供一种基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质,对于减少向基板喷出的处理液中的微粒是有用的。本公开的一个方面所涉及的基板处理装置具备:喷出部,其具有向基板喷出处理液的喷嘴;送液部,其向喷出部输送处理液;补充部,其向送液部补充用于向喷出部输送的处理液;连接部,其具有将补充部与送液部之间进行开闭的切换阀;过滤器,其将从补充部向送液部补充的处理液中包含的异物去除;补充准备部,其使所述补充部内与所述送液部内的压力差缩小,之后打开所述切换阀;以及补充控制部,其在所述切换阀通过所述补充准备部而被打开的情况下,使补充部开始向送液部补充处理液。
IPC分类: