发明公开
- 专利标题： 一种化学机械抛光垫的抛光层及其制备方法
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申请号： CN202011232817.3申请日： 2020-11-06
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公开(公告)号： CN112318363A公开(公告)日： 2021-02-05
- 发明人: 罗建勋 , 方璞 , 杨洗 , 孙烨 , 王凯
- 申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 申请人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号
- 专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号
- 主分类号： B24B37/24
- IPC分类号： B24B37/24
摘要：
本发明公开了一种用于化学机械抛光垫抛光层及其制备方法，其通过包含异氰酸酯预聚物、固化剂以及功能填料原料制备得到，预聚物是由二异氰酸酯和聚四氢呋喃多元醇分两步反应得到，固化剂组分是胺类交联剂，功能填料是已膨胀聚合物空心微球。由其制备的抛光层具有弹性模量随温度变化稳定、孔隙率高(微孔体积分数高)以及密度均匀的优点。
公开/授权文献
- CN112318363B 一种化学机械抛光垫的抛光层及其制备方法 公开/授权日：2022-03-11
