发明公开
CN112345621A 痕量探测设备
无效 - 驳回
- 专利标题： 痕量探测设备
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申请号： CN201910670828.0申请日： 2019-07-23
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公开(公告)号： CN112345621A公开(公告)日： 2021-02-09
- 发明人: 张清军 , 李元景 , 陈志强 , 李荐民 , 刘以农 , 刘耀红 , 赵艳琴 , 严李李 , 曹彪 , 马秋峰 , 李鸽
- 申请人： 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
- 申请人地址： 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层;
- 专利权人： 同方威视技术股份有限公司,清华大学
- 当前专利权人： 同方威视技术股份有限公司,清华大学
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层;
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王静
- 主分类号： G01N27/622
- IPC分类号： G01N27/622 ; H01J49/02
摘要：
本发明公开了一种痕量探测设备。所述痕量探测设备包括：盒体，所述盒体包括主体框架和顶板，所述顶板和主体框架构成全封闭的腔体；位于所述腔体内且在腔体内的第一侧的离子迁移管组件；以及位于所述腔体内且在腔体内的第二侧的前放及高压电路板，所述第二侧与第一侧相对。
