发明公开
- 专利标题: 一种用于光刻机照明系统的自由光瞳生成方法
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申请号: CN202011406432.4申请日: 2020-12-02
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公开(公告)号: CN112462577A公开(公告)日: 2021-03-09
- 发明人: 牛志元 , 施伟杰
- 申请人: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司深圳分公司
- 申请人地址: 广东省深圳市福田区福保街道福田保税区英达利科技数码园C座301F室
- 专利权人: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司深圳分公司
- 当前专利权人: 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
- 当前专利权人地址: 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼
- 代理机构: 深圳市智享知识产权代理有限公司
- 代理商 王琴
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本发明提供了一种用于光刻机照明系统的自由光瞳生成方法,在该方法中,具体实现采用Python脚本语言编写,该优化方法分为两大部分功能:首先,把微反射镜数目作为一个连续而非离散的变量进行连续函数的优化,得到连续反射镜数条件下的优化结果;然后,由于反射镜数实际是整数,将连续的反射镜数进行离散化以得到最终的优化结果。本发明提供的技术方案实际产生的自由光瞳与理想光瞳光刻性能相匹配,对反射镜光斑的位置进行优化进一步缩小了误差,有利于提高光刻工艺的分辨率。
公开/授权文献
- CN112462577B 一种用于光刻机照明系统的自由光瞳生成方法 公开/授权日:2023-11-28
IPC分类: